MOCVD装置
MOCVD（Metal Organic Chemical Vapor Deposition）装置とは、原料に有機金属やガスを用いながら化合物半導体の成膜を行う装置のことです。近年、LEDやスマートフォン、自動運転システムを搭載した電気自動車が社会を劇的に豊かにしています。これらの画期的なデバイスの中核をなす材料として、化合物半導体は不可欠な材料であり、化合物半導体の製造には当社のようなMOCVD装置が必要とされています。当社は1983年に自社開発の商業用MOCVDを世界で初めて導入しました。現在では用途（研究用、量産用）、原料（GaN（窒化ガリウム）、Ga2O3（酸化ガリウム）、GaAs/InP（ガリウムヒ素/インジウムリン））、ウェハサイズ・枚数（2インチ×単数・複数枚）等によって、様々なタイプの装置を研究・製造・販売しています。