信越化学工業
信越化学工業
事業内容
製品別
従業員データ
（データ取得日 20240331）
グループ会社／子会社／関連会社（一部）
沿革
信越窒素肥料株式会社として発足。翌年、直江津工場が完成し、カーバイドおよび石灰窒素の製造を開始。
磯部金属試験所（現・群馬事業所）を設置。
信越化学工業株式会社に社名変更。
大同化学工業を合併、武生工場とする。
東京証券取引所に株式上場。
シリコーンの工業生産開始
「日信化学工業（株）」を設立
塩化ビニル樹脂の製造開始
か性ソーダ、塩素の製造開始
クロロメタンの製造開始
信越ポリマー株式会社を設立。ポルトガルに塩化ビニル樹脂の製造・販売を行うシレス社を設立。
シリコーンＲＴＶゴムを開発
「信越協同建設（株）」（現・信越アステック（株））を設立
セルロース誘導体の製造開始
左官用メトローズを開発
「長野電子工業（株）」を設立
胃溶性コーティング剤（ＴＣ－５）を開発
シランカップリング剤を開発
信越半導体株式会社を設立。
イットリウムなど高純度レア・アースの製造開始
「鹿島塩ビモノマー（株）」、「鹿島電解（株）」を設立
「信越酢酸ビニル（株）」を設立
「直江津電子工業（株）」を設立
「信越石英（株）」を設立
レア・アースマグネットを開発
ＨＰＭＣＰの製造開始
シンテック社（米国）を設立。翌1974年から米国テキサス州で塩化ビニル樹脂の生産を開始。
信越半導体「Ｓ．Ｅ．Ｈ．マレーシア社」を設立
エポキシ・モールディングコンパウンドを開発
「信越エンジニアリング（株）」を設立
塩ビ技術研究所（現塩ビ・高分子材料研究所）、シリコーン電子材料技術研究所を設置
合成香料アルファイロンを事業化
合成技術研究所、磁性材料研究所を設置
合成香料青葉アルコールを開発
Ｌ－ＨＰＣを事業化
信越半導体「シンエツハンドウタイ・アメリカ社」を設立
ＩＣマスク用合成石英基板の製造開始
米国ワシントン州にシンエツハンドウタイ・アメリカ社を設立。
合成性フェロモンを開発
窒化ケイ素を開発
ジクロシランの生産を開始
信越半導体、白河工場完成
信越半導体「シンエツハンドウタイ・ヨーロッパ社（Ｕ.Ｋ.）」を設立
リチウム・タンタレート（ＬＴ）を開発
「Ｋ－Ｂｉｎ社」を設立
「シンエツシリコーンズ・オブ・アメリカ社」を設立
超高純度窒化ホウ素（ＰＢＮ）の成形品を開発
「韓国シンエツシリコーン社」を設立
「崇信シリコーン社」（現・台湾シンエツシリコーン社）を設立
精密機能材料研究所を設置
「マイクロサイ社」を設立（米）
「シンエツ・マグネティクス社」を設立（米）
信越半導体「Ｓ．Ｅ．Ｈ．シャーラム社」を設立（馬）
光ファイバー用プリフォーム本格製造開始
フォトマスク防塵用カバー、ペリクルを開発
信越半導体「信越光電社」を設立（台）
オーストラリアの「シムコアオペレーションズ社」を買収
フォトレジストの事業化
オランダの塩ビ事業を買収し、「シンエツPVC社」設立
液状フッ素エラストマーを開発
光通信用部品事業に参入
新機能材料技術研究所を設立
「日本酢ビ・ポバール（株）」を設立
「日本酢ビ・ポバール（株） 」を完全子会社化
ネオジム系希土類磁石の新高性能化技術を開発
「三益半導体工業(株)」の株式公開買付（ＴＯＢ）完了
凸版印刷と最先端フォトマスクブランクスを共同開発
高輝度LED用リフレクター材料、および波長変換フィルムを開発
直江津工場に次亜塩素酸ソーダ製造設備新設
「アジア シリコーンズ モノマー社」を完全子会社化
高輝度ＬＥＤ用に高屈折率の封止材と実装基板を開発
放射線遮蔽シリコーンゴムシート「ラディバリヤーシート」を採用した放射線防護ベストを実用化
５G向け熱硬化性低誘電樹脂「SLKシリーズ」を量産化
電気自動車・ハイブリッド自動車向けの放熱用シリコーン材料を開発
信越電子材料（台湾）でフォトレジストの増設完了
ウエアラブルデバイス用新材料を開発
硬化特性・安全性に優れた新規硬化タイプの一液型液状シリコーンゴムの新製品を開発
車載向け高圧ケーブルの被覆材に最適な成形用シリコーンゴムを開発
